本社
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半導体製造工程に使用するマガジンをそのままアニールやキュアできるように開発された装置です。 非常にコンパクトで状況に応じて複数台使用することも容易な大きさです。

マガジン加熱装置とは、半導体製造工程に使用するマガジンをそのままアニールやキュアできるように開発された装置です。
非常にコンパクトで状況に応じて複数台使用することも容易な大きさです。
昇温時の温度分布が極めて安定し、昇温時間が短いのも特徴です。プログラム可能な温度調節器を使用することによりステップキュアも可能です。
| 加熱ステップ数 | 任意に可変 |
|---|---|
| 最高使用温度 | ワーク温度にて250℃ |
| 保持温度条件 | マガジン内ワーク 100〜250±5℃以内 |
| 対象マガジン | W:70×L:230×H:200 |
| マガジン収納数 | 1 |
| 炉内寸法 | W:80×L:300×H:220 |
| 加熱方式 | 遠赤外線加熱+熱風加熱方式 |
| 電源電圧 | 三相 200V 3kVA |
| 設備寸法 | W:450×L:700×H:530 |

この加熱装置は、キャリアやリードフレームを収納したアルミマガジンを1 炉に1 マガジンづつ入炉し、ステップ昇温を可能にした装置です。
小型加熱炉をラックに8 台並べてそれぞれに単独制御できるシステムを組み込んでいます。
1台の制御BOXに1 台の加熱炉の組合せから複数個の加熱炉の組合せまで製作可能です。
基本は“均熱精度”の優れた加熱炉です。

| 外形寸法 | W320×D380×H944(シャッター閉時) |
|---|---|
| 炉内寸法 | W172×D277×H294(マガジンサイズにより変更可) |
| 電源 | 単相200V 15A |
| 圧縮空気 | 0.5Mpa |
| 窒素 | 0.3Mpa 25L/min |
| 設定温度 | 40℃~300℃ |
| 温度精度 | 設定温度に対し ±3℃ |
| 制御 | オムロン製シーケンス シマデン製温調器 SSR PID |
九州日昌独自の”均熱技術”を発展させた設備です。
電子部品、半導体等の製造工程で近年特に”熱の精度”を要求されます。
また、”環境に優しい”設備創りを求められます。
マガジン加熱装置(SMH-140)は従来の加熱プロセスを踏襲しながら効率と省エネを実現しました。
マガジン単位で加熱と冷却を行います。
一定温度の加熱プロファイルからステップ(階段)加熱プロファイルまでプログラムコントロールによって実現できます。
電源ON→ヒータON→(昇温完了信号)
シャッター開→マガジンセット→シャッター閉→自動運転スタート→自動運転終了